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PB1000型微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)

所屬系列:ZJYQ-LXSYQT-NANOVEA

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產(chǎn)品描述
PB1000型微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)產(chǎn)品特性: 
-  模塊化設(shè)計:可在一臺儀器集成納米壓痕儀、納米劃痕儀、微米壓痕儀、微米劃痕儀4款儀器。
-  壓痕測試符合ISO14577與美國ASTM E2546標(biāo)準(zhǔn),劃痕測試完全符合ISO 20502、1518、ASTM、D7027、D1624、D7187、C171標(biāo)準(zhǔn)。
- 載荷加載系統(tǒng):采用閉環(huán)載荷加載垂直加載,準(zhǔn)確性遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的開環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù),可力求施加載荷的精準(zhǔn)性。
- 載荷驅(qū)動方式:高精度壓電陶瓷驅(qū)動,精度優(yōu)于電磁力驅(qū)動。
- NANOVEA高精度電容式傳感器來能夠力求系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測量可力求壓入深度與劃入深度實時測量。
- 采用encoder高精度光柵尺樣品臺,定位精度可達(dá)250nm以內(nèi)。
-  特的熱飄逸控制技術(shù):納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm/s,同時通過的硬度測試軟件,利用熱飄逸補(bǔ)償技術(shù)可將熱飄逸總量控制在1nm以內(nèi);另外,儀器采用立式結(jié)構(gòu),電子單元在左右兩邊,熱量往上漂不會對電子單元產(chǎn)生影響,從而得到非常小的熱漂移。
- 劃痕具有全景成像模式
- NANOVEA公司金剛石面積函數(shù)校準(zhǔn)技術(shù),只需要壓一次就可以對針尖面積函數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn)實現(xiàn)準(zhǔn)確測量!
PB1000型微納米力學(xué)綜合測試系統(tǒng)主要技術(shù)參數(shù):
1)納米壓痕儀:
- 靜態(tài)加載模式大加載載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN
- 動態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz
- 載荷分辨率:3nN
- 可實現(xiàn)的小載荷:0.1mN
- 加載速率:0.04-12000mN/min
- 大壓入深度(電容傳感器): 250μm/1mm
- 位移分辨率:0.0003nm
- 快速壓痕功能:做100個mapping點(diǎn)只需5分鐘
- 熱飄逸<0.05nm/s(室溫條件下)
2)納米劃痕儀:
- 劃痕正向力大載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN
- 載荷分辨率:3nN
- 劃痕正向力小載荷:0.1mN
- 大劃痕深度:250μm/1mm
- 大劃痕長度:50mm
- 劃痕速度:0.05-600mm/min
- 位移分辨率:0.0003nm
- 大深度:250μm/1mm
- 深度分辨率:0.0003nm
-  大摩擦力:400mN/1800mN
- 摩擦力分辨率:7μN(yùn)
3)微米壓痕儀:
- 大加載載荷:40N/200N
- 載荷分辨率:2.4μN(yùn) /12μN(yùn)
- 載荷噪聲水平(RMS):0.1mN/0.5mN
- 可實現(xiàn)的小載荷:2mN/10mN
- 加載速率:0.01-500N/min / 0.05-1000N/min
- 快速壓痕功能:做100個mapping點(diǎn)只需12分
- 深度范圍(電容式傳感器):1mm
-  深度分辨率:0.01nm
- 深度分噪聲水平(RMS): 0.5nm
4)微米劃痕儀:
- 劃痕正向力大載荷:40N/200 N
- 劃痕正向力小載荷:2mN/10mN
- 大劃痕深度:1mm
- 深度分辨率:0.01nm
- 深度分噪聲水平(RMS): 0.5nm
- 大劃痕長度:50mm
- 劃痕速度:0.1-1200mm/min
- 大摩擦力:20N/200N
- 摩擦力分辨率:1.3mN/13mN
5)精密定位平臺:
- XY方向移動范圍:150mm*150mm
- Z方向允許的大樣品空間:150mm
- 工作臺XY方向定位分辨率:10nm
- 工作臺XY方向定位精度:250nm
- Z方向可自動移動移動范圍:50mm
6)光學(xué)金相顯微鏡成像系統(tǒng):
- 物鏡的放大倍率分別為:5X,10X,20X,50X,1000X
- 總的放大倍率分別為:400X,800X,1600X,4000X,8000X,
7)原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)(高分辨率):
- XYZ方向大掃描范圍:100μm *100μm *12μm
- XY方向移動分辨率:0.1nm
- Z方向的測量分辨率:0.02nm

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